? ? 第十一屆慕尼黑上海分析生化展于2023年7月13日在國家會(huì)展中心(上海)圓滿落下帷幕。 作為實(shí)驗(yàn)室行業(yè)燈塔展會(huì),本屆analytica China為行業(yè)奉上了一場(chǎng)技術(shù)與思考交流的盛會(huì),洞悉新形勢(shì),把握新機(jī)遇,共話新發(fā)展。

? ? 今年展會(huì)匯集1,273家參展企業(yè)和合作單位(2020年:1,121家)及56,864位專業(yè)觀眾共襄盛舉(2020年:23,652位)。八大展區(qū)近80,000平米總展示面積(2020年:60,000平米)上呈現(xiàn)了900+年度新品和新技術(shù)、創(chuàng)新技術(shù)及前沿解決方案。

? ? 本次展會(huì)，CIF新品等離子去膠機(jī)、RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)橫空出世，吸引了眾多專家、行業(yè)人士的駐足，咨詢絡(luò)繹不絕。CIF推出等離子去膠機(jī)外觀大氣美觀，同時(shí)實(shí)用性強(qiáng)，引發(fā)了專家老師們的討論。采用電感耦合各向同性（各個(gè)方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。特別適合于大學(xué)，科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，對(duì)電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、MEMS制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對(duì)基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預(yù)處理等。

? ? 同時(shí)還有一款產(chǎn)品也受到了專家老師們的喜愛，RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)，科研院所、微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低，性價(jià)比高，易維護(hù)，處理快速高效。適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行RIE反應(yīng)離子刻蝕。

國產(chǎn)儀器凝聚“中國力量”,助力國潮崛起

? ?CIF始終堅(jiān)持以客戶為中心，以市場(chǎng)為導(dǎo)向，本著技術(shù)引領(lǐng)、服務(wù)驅(qū)動(dòng)的發(fā)展理念，積極響應(yīng)國家科學(xué)儀器“國產(chǎn)替代”相關(guān)政策，按照“產(chǎn)、學(xué)、研、用”及“專、精、特、新”的理念和要求，不斷擴(kuò)大研發(fā)、制造投入，向全產(chǎn)業(yè)鏈智能制造發(fā)展。

? ?CIF希望通過自我的不斷強(qiáng)大，為我國在前沿科學(xué)技術(shù)及高端儀器設(shè)備研發(fā)等方面作出一份貢獻(xiàn)。